研究级12寸大平台半导体检查显微镜CM120BD广泛应用于芯片/晶圆/LCD,粒子爆破检查等行业使用。采用半复消技术,集明场,暗场及偏光等多种照明方式,任何观察都能呈现清晰锐利的显微图像,其微分干涉效果可与进口品牌相媲美。用户可根据实际应用进行功能选择,是工业检测的有效工具。特别是针对线路板切片测量,晶圆检测,金相材料,高分子材料等尺寸较大的样器进行分析检测,本机配备了偏振系统可做偏光检测,在半导体和PCB检测中,可消除杂光,细节更加清晰。同时可以选配DIC干涉附件插入DlC棱镜,可进行DIC微分干涉相衬观察。DIC技术可以使物体表面微小的高低差产生明显的浮雕效果,大幅提高图像对比度,特别适合观察导电粒子。
产品概述
研究级12寸大平台半导体检查显微镜CM120BD广泛应用于芯片/晶圆/LCD,粒子爆破检查等行业使用。采用半复消技术,集明场,暗场及偏光等多种照明方式,任何观察都能呈现清晰锐利的显微图像,其微分干涉效果可与进口品牌相媲美。用户可根据实际应用进行功能选择,是工业检测的有效工具。特别是针对线路板切片测量,晶圆检测,金相材料,高分子材料等尺寸较大的样器进行分析检测,本机配备了偏振系统可做偏光检测,在半导体和PCB检测中,可消除杂光,细节更加清晰。同时可以选配DIC干涉附件插入DlC棱镜,可进行DIC微分干涉相衬观察。DIC技术可以使物体表面微小的高低差产生明显的浮雕效果,大幅提高图像对比度,特别适合观察导电粒子。
性能特点
2、配置12寸大平台,带快速移动装置。
3、配置有偏光装置,适合观察高反光材料的表面;
显微镜参数
序号 | 名称 | 技术参数 |
---|---|---|
1 |
平场目镜 |
正像大场高眼点目镜PL10X/25mm |
2 |
无限远长工作距明场半复消色差金相物镜2.5X NA0.08 WD9.2 (选购) 无限远长工作距明暗场半复消色差金相物镜5X NA0.15 WD15 无限远长工作距明暗场半复消色差金相物镜10X NA0.30 WD8.4 无限远长工作距明暗场半复消色差金相物镜20X NA0.40 WD11.9 |
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3 |
光学放大倍数 |
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4 |
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5 |
观察头 |
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6 |
转换器 |
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7 |
调焦机构 |
反射用机架, 低手位粗微同轴调焦机构。粗调行程35mm,微调精度0.001mm。带有防止下滑的调节松紧装置和随机上限位装置。 |
8 |
12英寸载物台,平台面积 760*430mm,玻璃台面310*418mm,移动行程:300mmX300mm机械平台,X、Y方向同轴调节;含快速移动装置 |
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9 |
晶圆转台 |
12寸通用晶圆转台(选购) |
10 |
偏光组件 |
起偏镜插板,360°旋转式检偏镜插板 |
11 |
反射照明系统 |
明暗场反射照明器,带可变孔径光阑,视场光阑,中心可调,带滤色片插槽,带起偏镜/检偏镜插槽,10W可调LED灯室,透、反射通用,预定中心 |
13 |
聚光镜 |
摇出式消色差聚光镜(N.A.0.9) |
14 |
摄像接口 |
0.65倍专用摄像接口 |
15 |
干涉组件 |
诺曼尔斯基微分干涉片(选购) |
16 |
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17 |
拍照,录像,测量,实时图像拼接,景深融合等(选购) |
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18 |
标尺 |
高精度型测微尺,格值0.01m 总长1mm(选购) |