研究级电动12寸大平台半导体检查显微镜CM120BD广泛应用于芯片/晶圆/LCD,粒子爆破检查等行业使用。采用半复消技术,集明场,暗场及偏光等多种照明方式,任何观察都能呈现清晰锐利的显微图像,其微分干涉效果可与进口品牌相媲美。用户可根据实际应用进行功能选择,是工业检测的有效工具。机器采用电动转换器,物理按钮和软件双控,进行远位数调节,12寸大工作平台特别是针对线路板切片测量,晶圆检测,金相材料,高分子材料等尺寸较大的样器进行分析检测,本机配备了偏振系统可做偏光检测,在半导体和PCB检测中,可消除杂光,细节更加清晰。同时可以选配DIC干涉附件插入DlC棱镜,可进行DIC微分干涉相衬观察。DIC技术可以使物体表面微小的高低差产生明显的浮雕效果,大幅提高图像对比度,特别适合观察导电粒子。
详细研究级12寸大平台半导体检查显微镜CM120BD广泛应用于芯片/晶圆/LCD,粒子爆破检查等行业使用。采用半复消技术,集明场,暗场及偏光等多种照明方式,任何观察都能呈现清晰锐利的显微图像,其微分干涉效果可与进口品牌相媲美。用户可根据实际应用进行功能选择,是工业检测的有效工具。特别是针对线路板切片测量,晶圆检测,金相材料,高分子材料等尺寸较大的样器进行分析检测,本机配备了偏振系统可做偏光检测,在半导体和PCB检测中,可消除杂光,细节更加清晰。同时可以选配DIC干涉附件插入DlC棱镜,可进行DIC微分干涉相衬观察。DIC技术可以使物体表面微小的高低差产生明显的浮雕效果,大幅提高图像对比度,特别适合观察导电粒子。
详细科研级三目倒置金相显微镜VM3600I采用优良的无限远半复消色差光学系统60mm多功能、模块化的设计理念,带有偏光装置,并可选配暗场装置、DIC微分干涉装置实现暗场和微分干涉等特殊观察。紧凑稳定的高刚性主体,充分体现了显微镜操作的防振要求。
详细VM5000M适用于对工件表面的组织结构与几何形态进行显微观察。采用优良的无限远光学系统。仪器配有偏光装置可实现普通与偏光观察的自由切换,模块化功能设计理念,可方便升级系统进行暗场观察等功能。
详细VM4800M 采用优良的无限远光学系统与模块化功能设计理念,可以方便升级系统,仪器配有偏光装置可实现偏光观察同时可选配暗装置及微分干涉装置。适用于薄片试样的金相、矿相、岩相、晶体等结构分析和鉴别,电子芯片的检查或用于观察材料表面特性,如:划痕、裂纹、喷涂的均匀性等及纺织纤维、化学颗粒的分析研究。是生物学、金属学、矿物学、精密工程学、电子学等研究的理想仪器。
详细VM4000M采用优质的无限远光路系统,配置了落射与透射照明系统、无限远长距平场消色差物镜、内置偏光观察装置,具有图像清晰、衬度好,造型美观,操作方便等特点,能分别对不透明物体或透明物体进行显微观察,尤其适合观察金相组织分析金属、矿相内部结构组织观察材料表面。
详细VM3000I 三目倒置金相显微镜采用优良的无限远光学系统与多功能、模块化的设计理念,仪器带有偏光装置,并可选配暗场装置、DIC微分干涉装置实现暗场和微分干涉等特殊观察。
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