LAP-2000 自动金相试样磨抛机
产品技术特性
- 1、两个磨抛盘。
- 2、可同时抛光6个直径30mm的试样。
- 3、单点气动加载，无需夹持试样。
- 4、一机多用：一机实现金相试样的粗磨、精磨、粗抛和精抛的全过程。
- 5、专用变频调速控制系统，具有三级定速和无极调速两种功能：
- （1）三级调速：用户可自定义三个常用速度，分别用来预磨，研磨和抛光。
- （2）无机调速：磨盘转速从0转/分到1000转/分，八段速编程，自动停机，方便高级用户自动实现金相试样制备。
- 6、通过用电磁阀来控制水的通断，研磨盘里有自动喷水清洗装置，防止排水管道堵塞。
- 7、外观美观，坚固耐用。
订购信息
上海光学仪器厂友情提示:
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主要技术参数：
1、工作盘转速：0-1000转/分（可定制）
2、工作盘直径：标配250mm（选配230、200mm）
3、研磨头转速：50-200转/分（无极调速）
4、研磨头压力：5～60N（可调节）
5、工作气源压力：0.5～0.8Mpa
6、输入电压：单相220V，50/60Hz
7、电机功率：750W
8、外形尺寸(L×W×H)：710×760×640 mm
9、重量：98kg
